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科研動態(tài)

八室科研成果閃耀亮相IC CHINA 2010

稿件來源: 發(fā)布時(shí)間:2010-11-03

  10月21日至23日,一年一度的中國國際半導(dǎo)體博覽會暨高峰論壇(IC CHINA 2010)在蘇州國際博覽中心隆重舉行。本屆展會專門開辟了02專項(xiàng)成果展區(qū),八室由夏洋主任親自帶隊(duì),攜三臺先進(jìn)設(shè)備參展,在向業(yè)界展示微電子所在微電子設(shè)備領(lǐng)域的雄厚科研實(shí)力的同時(shí),也充分顯示了我們以高質(zhì)量完成02專項(xiàng)科研任務(wù)的堅(jiān)定信心。

  在本屆展會上,八室的展位處于02專項(xiàng)展區(qū)的入口位置,與東京精密、華潤微電子、愛發(fā)科等業(yè)界知名企業(yè)毗鄰,備受關(guān)注。展會期間,八室集中展示了KE-320型高密度等離子體刻蝕機(jī)、KD-200A型原子層沉積系統(tǒng)、動態(tài)薄層清洗設(shè)備等最新的科研成果,新穎別致的展臺、豐富多樣的展品吸引了大量觀眾駐足參觀。工業(yè)和信息化部副部長楊學(xué)山、中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會理事長江上舟、微電子所所長葉甜春等領(lǐng)導(dǎo)和專家先后蒞臨八室展位參觀指導(dǎo)。夏洋主任和劉訓(xùn)春研究員向有關(guān)領(lǐng)導(dǎo)同志詳細(xì)匯報(bào)了八室在微電子設(shè)備研發(fā)領(lǐng)域取得的成就和02專項(xiàng)項(xiàng)目的完成情況,得到了一致好評。楊學(xué)山副部長在聽取匯報(bào)后,對微電子所在這一領(lǐng)域取得的豐碩成果表示贊賞,并鼓勵(lì)大家要再接再厲,為推動我國在微電子設(shè)備制造領(lǐng)域的不斷發(fā)展再立新功。葉甜春所長在參觀了八室展位并聽取匯報(bào)后,對八室的工作給予了充分肯定。

  在展會期間,還同期舉辦了以“合作創(chuàng)新、整合優(yōu)化、持續(xù)發(fā)展”為主題的高峰論壇,為廣大業(yè)內(nèi)人士搭建了相互交流、相互學(xué)習(xí)、相互合作的良好平臺。本屆展會由國家工業(yè)和信息化部、科技部、江蘇省人民政府作為指導(dǎo)單位,中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會、中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會電子信息行業(yè)分會、蘇州市人民政府主辦,共計(jì)240余家廠商攜產(chǎn)品參與了展示活動。

八室展位

夏洋主任向工信部楊學(xué)山副部長(右)介紹參展設(shè)備的情況

夏洋主任(左)、劉訓(xùn)春研究員(右一)向葉甜春所長(中)

介紹KE-320型高密度等離子體刻蝕機(jī)

  02項(xiàng)目專家與微電子所參會人員合影留念

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