2011年1月13日上午， 由微電子所七室承擔(dān)的“核高基重大專項(xiàng)“先進(jìn)EDA工具平臺(tái)開發(fā)” 課題內(nèi)部驗(yàn)收會(huì)” 召開。來自北京華虹集成電路公司、北京華大九天軟件公司、復(fù)旦大學(xué)、清華大學(xué)、北京電子技術(shù)研究所等行業(yè)內(nèi)的知名專家對(duì)課題進(jìn)行了評(píng)審。

　　評(píng)審專家首先聽取了課題負(fù)責(zé)人陳嵐研究員關(guān)于技術(shù)路線、管理路線的課題匯報(bào)，并現(xiàn)場(chǎng)查看了成果演示及文檔材料。專家認(rèn)為該專項(xiàng)成果主要有四方面：第一，完成了130nm和65nm工藝兩套功能完善的PDK，建立了PDK設(shè)計(jì)方法和以國(guó)產(chǎn)EDA工具為主體的設(shè)計(jì)參考流程；第二，研究國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的納米工藝DFM應(yīng)用技術(shù)，開發(fā)了國(guó)內(nèi)主流Foundry 90nm和65nm 工藝DFM優(yōu)化精簡(jiǎn)標(biāo)準(zhǔn)單元庫(kù)，通過了Foundry的DFM測(cè)試驗(yàn)證；第三，應(yīng)用國(guó)產(chǎn)EDA工具完成兩款芯片設(shè)計(jì)，提出了EDA軟件需求、測(cè)試和改進(jìn)報(bào)告；第四，針對(duì)中芯國(guó)際65納米工藝，運(yùn)用自主開發(fā)的DFM軟件平臺(tái)、光刻知識(shí)庫(kù)以及第三方軟件，建立DFM應(yīng)用流程。各項(xiàng)任務(wù)都超額完成了考核指標(biāo)的要求，全面落實(shí)了法人負(fù)責(zé)制和課題組長(zhǎng)責(zé)任制的過程管理方式，一致同意通過內(nèi)部驗(yàn)收。

　　此次01重大專項(xiàng)驗(yàn)收是國(guó)家重大專項(xiàng)啟動(dòng)實(shí)施以來第一個(gè)進(jìn)行項(xiàng)目驗(yàn)收的課題，也是微電子所第一個(gè)接受專項(xiàng)驗(yàn)收的課題，此次驗(yàn)收的順利通過，不僅有助于凝煉項(xiàng)目開發(fā)成果，配合牽頭單位完成總課題的合同驗(yàn)收，也有助于積累研究所在重大專項(xiàng)方面項(xiàng)目管理、項(xiàng)目驗(yàn)收的經(jīng)驗(yàn)，更好的完成國(guó)家項(xiàng)目任務(wù)。