近日，微電子所納米加工與新器件集成技術(shù)實驗室成功研制出國內(nèi)首個256位分子存儲器電路。

　　分子電路是指在分子層次上構(gòu)筑的電子器件及其集成電路，是后摩爾時代接替硅基電路最受關(guān)注的方向之一，它能夠使電子器件的關(guān)鍵尺寸縮小到分子尺度，突破摩爾定律極限，推動集成電路向更小尺寸，更高集成度方向發(fā)展。

　　電阻轉(zhuǎn)變型雙穩(wěn)態(tài)材料的存儲特性在信息存儲以及存儲器方面有著非常廣闊的應(yīng)用前景，是一種天生的存儲材料。具有此類雙穩(wěn)態(tài)特性的分子功能材料由于其低成本、低功耗，并且有潛力將特征尺寸縮小到分子尺度等優(yōu)點，而受到廣泛的關(guān)注。分子存儲器是利用有機(jī)分子的電學(xué)雙穩(wěn)態(tài)特性實現(xiàn)存儲功能的，分子存儲器要實現(xiàn)高密度存儲，就需要有效的降低特征尺寸，即存儲點的周期。

　　微電子所的研究人員，在深入研究不同轉(zhuǎn)變機(jī)理的各種電阻轉(zhuǎn)變型雙穩(wěn)態(tài)材料的基礎(chǔ)上，基于一次電子束光刻和二次X射線曝光的具有完全知識產(chǎn)權(quán)的混合光刻技術(shù)，成功研制了國內(nèi)首個256位分子存儲器電路，該存儲器電路的特征尺寸達(dá)到250nm，電學(xué)性能優(yōu)異，實驗結(jié)果表明分子存儲器的分子層沒有受到損傷。

　　國內(nèi)首個256位分子存儲器電路的研制成功，為我國分子電路的高集成度、高速度和低功耗的實現(xiàn)奠定了重要基礎(chǔ), 有力推動了我國分子電子學(xué)的發(fā)展。

　　本工作得到了國家973項目的支持，中國科學(xué)院化學(xué)所提供了分子材料的制備生長，二次X射線光刻工藝在國家同步輻射實驗室完成。