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論文編號(hào):
第一作者所在部門:
論文題目: 碳致深能級(jí)引起的AlGaN/GaN HEMT電流崩塌現(xiàn)象
論文題目英文:
作者: 龐磊,李誠(chéng)瞻,王冬冬,黃俊,曾軒,劉新宇,劉鍵,鄭英奎,和致經(jīng)
論文出處:
刊物名稱: 《半導(dǎo)體學(xué)報(bào)》
: 2008
: 29
: 6
頁(yè): 1066-1069
聯(lián)系作者: 龐磊
收錄類別:
影響因子:
摘要:
AlGaN/GaN HEMT良好的功率特性雖然被大量報(bào)導(dǎo),但其電流崩塌現(xiàn)象仍是一個(gè)令人困擾的問(wèn)題,作者通過(guò)實(shí)驗(yàn)證明了導(dǎo)致其電流崩塌的一個(gè)因素. 兩個(gè)AlGaN/GaN樣片被分別放在純氮?dú)夂蛽教嫉牡獨(dú)鈿夥罩锌焖偻嘶?,利用XPS證明了后者中的碳元素含量遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于前者. 比較二者的I-V特性曲線,可發(fā)現(xiàn)碳雜質(zhì)的引入可使AlGaN/GaN HEMT電流崩塌程度大大增加. 分析表明:由碳雜質(zhì)引入導(dǎo)致的深能級(jí)使得負(fù)柵壓下俘獲溝道中的載流子在正柵壓下不能立刻釋放,從而引起AlGaN/GaN HEMT中的電流崩塌現(xiàn)象.  
英文摘要:
外單位作者單位:
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