論文編號(hào): | |
第一作者所在部門: | |
論文題目: | 碳致深能級(jí)引起的AlGaN/GaN HEMT電流崩塌現(xiàn)象 |
論文題目英文: | |
作者: | 龐磊,李誠(chéng)瞻,王冬冬,黃俊,曾軒,劉新宇,劉鍵,鄭英奎,和致經(jīng) |
論文出處: | |
刊物名稱: | 《半導(dǎo)體學(xué)報(bào)》 |
年: | 2008 |
卷: | 29 |
期: | 6 |
頁(yè): | 1066-1069 |
聯(lián)系作者: | 龐磊 |
收錄類別: | |
影響因子: | |
摘要: | AlGaN/GaN HEMT良好的功率特性雖然被大量報(bào)導(dǎo),但其電流崩塌現(xiàn)象仍是一個(gè)令人困擾的問(wèn)題,作者通過(guò)實(shí)驗(yàn)證明了導(dǎo)致其電流崩塌的一個(gè)因素. 兩個(gè)AlGaN/GaN樣片被分別放在純氮?dú)夂蛽教嫉牡獨(dú)鈿夥罩锌焖偻嘶?,利用XPS證明了后者中的碳元素含量遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于前者. 比較二者的I-V特性曲線,可發(fā)現(xiàn)碳雜質(zhì)的引入可使AlGaN/GaN HEMT電流崩塌程度大大增加. 分析表明:由碳雜質(zhì)引入導(dǎo)致的深能級(jí)使得負(fù)柵壓下俘獲溝道中的載流子在正柵壓下不能立刻釋放,從而引起AlGaN/GaN HEMT中的電流崩塌現(xiàn)象. |
英文摘要: | |
外單位作者單位: | |
備注: | |
科研產(chǎn)出