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論文編號:
第一作者所在部門:
論文題目: 3333 lp/mm X射線透射光柵的研制
論文題目英文:
作者: 朱效立,馬杰,謝常青,葉甜春,劉明,曹磊峰,楊家敏,張文海
論文出處:
刊物名稱: 《光學(xué)學(xué)報(bào) 》
: 2008
: 28
: 6
:
聯(lián)系作者: 朱效立
收錄類別:
影響因子:
摘要:
針對X射線透射光柵攝譜儀中的高線密度光柵,研究了采用電子束曝光和X射線曝光技術(shù)結(jié)合制作高線密度X射線透射光柵的工藝技術(shù)。首先利用電子束曝光和微電鍍技術(shù)在鏤空的薄膜上制備母光柵X射線掩模版,然后利用X射線曝光和微電鍍技術(shù)小批量復(fù)制光柵。在國內(nèi)首次完成了3333 lp/mm X射線透射光柵的研制,柵線寬度為150 nm,周期為300 nm,金吸收體厚度為500 nm。衍射效率標(biāo)定的結(jié)果表明,該光柵的占空比合理、側(cè)壁陡直,具有良好的色散特性,能夠滿足空間探測、同步輻射和變等離子診斷等多個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用。 
 
英文摘要:
外單位作者單位:
備注: