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論文題目: | 3333 lp/mm X射線透射光柵的研制 |
論文題目英文: | |
作者: | 朱效立,馬杰,謝常青,葉甜春,劉明,曹磊峰,楊家敏,張文海 |
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刊物名稱: | 《光學(xué)學(xué)報(bào) 》 |
年: | 2008 |
卷: | 28 |
期: | 6 |
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聯(lián)系作者: | 朱效立 |
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摘要: | 針對X射線透射光柵攝譜儀中的高線密度光柵,研究了采用電子束曝光和X射線曝光技術(shù)結(jié)合制作高線密度X射線透射光柵的工藝技術(shù)。首先利用電子束曝光和微電鍍技術(shù)在鏤空的薄膜上制備母光柵X射線掩模版,然后利用X射線曝光和微電鍍技術(shù)小批量復(fù)制光柵。在國內(nèi)首次完成了3333 lp/mm X射線透射光柵的研制,柵線寬度為150 nm,周期為300 nm,金吸收體厚度為500 nm。衍射效率標(biāo)定的結(jié)果表明,該光柵的占空比合理、側(cè)壁陡直,具有良好的色散特性,能夠滿足空間探測、同步輻射和變等離子診斷等多個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用。 |
英文摘要: | |
外單位作者單位: | |
備注: | |
科研產(chǎn)出