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第一作者所在部門: | |
論文題目: | 大面積10000線/毫米軟X射線金屬型透射光柵的設計、制作與檢測 |
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作者: | 朱偉忠,吳衍青,郭 智,朱效立,馬 杰,謝常青,史沛熊,周洪軍,霍同林,邰仁忠,徐洪杰 |
論文出處: | |
刊物名稱: | 《物理學報》 |
年: | 2008 |
卷: | 57 |
期: | 10 |
頁: | 6386-6392 |
聯(lián)系作者: | 朱偉忠 |
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摘要: | 基于嚴格的矢量耦合波理論,優(yōu)化設計了用于13.4nm軟X射線干涉光刻的透射型雙光柵掩模版. 采用電子束光刻技術,在國內首次成功制作了周期為100nm的大面積金屬型透射光柵.光柵面積為1.5mm ×1.5mm,Cr浮雕厚度為50nm,Gap/period為0.6,襯底Si3N4厚度為100nm. 此光柵將用于上海光源軟X射線干涉光刻實驗站.利用其1級衍射光和2級衍射光將可以經濟高效地制作周期為50和25nm的大面積周期結構.最后,測量了該光柵對波長為13.4nm 同步輻射光的衍射光強度,并且推算得出該光柵的1級和2級衍射效率分別為4.41%和0.49%,與理論設計值比較符合.實驗結果與理論模擬結果的對比表明該光柵側壁陡直,Gap/period的控制也與設計值符合. |
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科研產出