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論文編號:
第一作者所在部門:
論文題目: 大面積10000線/毫米軟X射線金屬型透射光柵的設計、制作與檢測
論文題目英文:
作者: 朱偉忠,吳衍青,郭 智,朱效立,馬 杰,謝常青,史沛熊,周洪軍,霍同林,邰仁忠,徐洪杰
論文出處:
刊物名稱: 《物理學報》
: 2008
: 57
: 10
: 6386-6392
聯(lián)系作者: 朱偉忠
收錄類別:
影響因子:
摘要:
基于嚴格的矢量耦合波理論,優(yōu)化設計了用于13.4nm軟X射線干涉光刻的透射型雙光柵掩模版. 采用電子束光刻技術,在國內首次成功制作了周期為100nm的大面積金屬型透射光柵.光柵面積為1.5mm ×1.5mm,Cr浮雕厚度為50nm,Gap/period為0.6,襯底Si3N4厚度為100nm. 此光柵將用于上海光源軟X射線干涉光刻實驗站.利用其1級衍射光和2級衍射光將可以經濟高效地制作周期為50和25nm的大面積周期結構.最后,測量了該光柵對波長為13.4nm 同步輻射光的衍射光強度,并且推算得出該光柵的1級和2級衍射效率分別為4.41%和0.49%,與理論設計值比較符合.實驗結果與理論模擬結果的對比表明該光柵側壁陡直,Gap/period的控制也與設計值符合.  
英文摘要:
外單位作者單位:
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