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論文編號:
第一作者所在部門:
論文題目: SOI LDMOSFET的背柵特性
論文題目英文:
作者: 畢津順,宋李梅,海潮和,韓鄭生
論文出處:
刊物名稱: 《半導體學報》
: 2008
: 29
: 11
: 2148-2152
聯(lián)系作者: 畢津順
收錄類別:
影響因子:
摘要:
在絕緣體上硅襯底上,制備了柵長為0.5μm的低勢壘體接觸結(jié)構(gòu)和源體緊密接觸結(jié)構(gòu)的橫向雙擴散功率晶體管. 詳細研究了器件的背柵特性. 背柵偏置電壓對橫向雙擴散功率晶體管的前柵亞閾值特性、導通電阻和關態(tài)擊穿特性均有明顯影響. 相比于源體緊密接觸結(jié)構(gòu),低勢壘體接觸結(jié)構(gòu)橫向雙擴散功率晶體管的背柵效應更小,這是因為低勢壘體接觸結(jié)構(gòu)更好地抑制了浮體效應和背柵溝道開啟. 還介紹了一種絕緣體上硅橫向雙擴散功率晶體管的電路模型,其包含前柵溝道,背柵溝道和背柵偏置決定的串聯(lián)電阻.  
 
英文摘要:
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