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| 第一作者所在部門: | |
| 論文題目: | 高線密度X射線透射光柵的制作工藝 |
| 論文題目英文: | |
| 作者: | 朱效立 馬杰 曹磊峰 楊家敏 謝常青 劉明 陳寶欽 牛潔斌 張慶釗 姜驥 趙珉 葉甜春 |
| 論文出處: | |
| 刊物名稱: | 《半導(dǎo)體學(xué)報》 |
| 年: | 2007 |
| 卷: | 28 |
| 期: | 12 |
| 頁: | 2006-2010 |
| 聯(lián)系作者: | 朱效立 |
| 收錄類別: | |
| 影響因子: | |
| 摘要: | 采用電子束光刻、X射線光刻和微電鍍技術(shù),成功制作了面積為10mm×0.5 mm,周期為500nm,占空比為1∶1,金吸收體厚度為430nm的可用于X射線衍射的大面積透射光柵.首先利用電子束光刻和微電鍍技術(shù)制備基于鏤空薄膜結(jié)構(gòu)的X射線光刻掩模,然后利用X射線光刻經(jīng)濟(jì)、高效地復(fù)制X射線透射光柵.整個工藝流程分別利用了電子束光刻分辨率高和X射線光刻效率高的優(yōu)點,并且可以得到剖面陡直的納米級光柵線條.最后,測量了制作出的X射線透射光柵對波長為11nm同步輻射光的衍射峰,實驗結(jié)果表明該光柵具有良好的衍射特性. |
| 英文摘要: | |
| 外單位作者單位: | |
| 備注: | 基金項目：國家重點基礎(chǔ)研究發(fā)展規(guī)劃(批準(zhǔn)號:2007CB935302),國家高技術(shù)研究發(fā)展計劃(批準(zhǔn)號:2006AA843134)和國家自然科學(xué)基金(批準(zhǔn)號:90607022)資助項目
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科研產(chǎn)出