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論文編號(hào): 1725110120160223
第一作者所在部門:
論文題目: 原子層沉積生長(zhǎng)電學(xué)性質(zhì)可調(diào)ZnO薄膜工藝
論文題目英文:
作者: 張思敏
論文出處:
刊物名稱: 微納電子技術(shù)
: 2016
:
: 9
: 605
聯(lián)系作者: 盧維爾
收錄類別:
影響因子:
摘要:
英文摘要:
外單位作者單位:
備注: