論文編號: | 1725110120160157 |
第一作者所在部門: | |
論文題目: | Layout Decomposition Algorithms for Double Patterning Lithography |
論文題目英文: | |
作者: | 張學(xué)連 |
論文出處: | |
刊物名稱: | ICSICT-2016 |
年: | 2016 |
卷: | |
期: | 0 |
頁: | s14-5 |
聯(lián)系作者: | 吳玉平 |
收錄類別: | |
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科研產(chǎn)出