教育背景
1979.9-1983.6：西安交通大學(xué)半導(dǎo)體物理與器件,本科畢業(yè)，獲學(xué)士學(xué)位。
1985.9-1988.6：西安交通大學(xué)半導(dǎo)體物理與器件,研究生畢業(yè)，獲碩士學(xué)位。
工作簡歷
1997.4-今：中國科學(xué)院微電子中心（現(xiàn)改為中國科學(xué)院微電子研究所）從事集成電路工藝技術(shù)、電路設(shè)計(jì)、研究生管理及研究室管理工作，曾任高級工程師，光刻工藝負(fù)責(zé)人，研究室副主任兼任測試工藝負(fù)責(zé)人，硅工程中心產(chǎn)品部主任，項(xiàng)目/課題負(fù)責(zé)人，硅器件與集成技術(shù)研究室主任，所副總工程師、所第三屆學(xué)術(shù)委員會主任?，F(xiàn)任所總工程師、學(xué)術(shù)委員會副主任、學(xué)位委員會副主席、二級研究員、中國科學(xué)院大學(xué)教授、博士生導(dǎo)師、硅器件與集成技術(shù)研發(fā)中心總設(shè)計(jì)師。國家特殊津貼獲得者。
北京電力電子學(xué)會理事，中國科學(xué)院硅器件技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室學(xué)術(shù)委員會委員，中國科學(xué)院大學(xué)微電子學(xué)院教學(xué)委員會委員。
1999.6-2000.6：香港科技大學(xué),訪問學(xué)者。
1994.4-1997.3：北京精確微電子研究所，從事集成電路設(shè)計(jì)工作，任技術(shù)負(fù)責(zé)人。
1993.9-1994.3：北京盈發(fā)科技公司，從事集成電路設(shè)計(jì)工作，任集成電路部副經(jīng)理。
1988.6-1993.8：北京燕東微電子聯(lián)合公司，從事集成電路工藝技術(shù)、新產(chǎn)品開發(fā)及生產(chǎn)線管理，曾任工程師,車間主任，主任工程師。
1983.7-1985.8：電子工業(yè)部878廠，從事集成電路工藝技術(shù)工作，擴(kuò)散班長。
負(fù)責(zé)或參與了多項(xiàng)重要國家科技項(xiàng)目研究。 包括國家重大專項(xiàng)、973、863、國家自然基金等。
專著《抗輻射集成電路概論》，譯著《半導(dǎo)體制造技術(shù)》、《芯片制造－半導(dǎo)體工藝制程實(shí)用教程》（第5版）、《功率半導(dǎo)體器件基礎(chǔ)》、《空間單粒子效應(yīng)》、《現(xiàn)代電子系統(tǒng)軟錯(cuò)誤》，參加《中國材料工程大典》第11卷第3章第3節(jié)的編寫。發(fā)表學(xué)術(shù)論文100余篇。授權(quán)發(fā)明專利40余項(xiàng)。
“亞30納米CMOS器件相關(guān)的若干關(guān)鍵工藝技術(shù)研究”獲2005年國家技術(shù)發(fā)明二等獎(jiǎng);
“高性能柵長27納米CMOS器件及關(guān)鍵工藝技術(shù)研究” 獲2004年北京市科學(xué)技術(shù)一等獎(jiǎng);
“0.18/0.1微米CMOS集成電路關(guān)鍵技術(shù)研究”獲2004年北京市科學(xué)技術(shù)二等獎(jiǎng)。
2016年獲中國科學(xué)院“朱李月華優(yōu)秀教師獎(jiǎng)”。
人才隊(duì)伍