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當前位置 首頁 人才隊伍
  • 姓名： 韋亞一
  • 性別： 男
  • 職稱： 研究員
  • 職務： 課題負責人、02項目首席科學家
  • 學歷： 博士
  • 電話： +86-10-82995898
  • 傳真： +86-10-82995684
  • 電子郵件： weiyayi@ime.ac.cn
  • 所屬部門： 集成電路先導工藝研發(fā)中心
  • 通訊地址： 北京市朝陽區(qū)北土城西路3號

    簡　　歷：

  • 教育背景：

    1998畢業(yè)于德國馬普固體所/德國斯圖加特大學，獲理學博士學位

    1992畢業(yè)于中國科學院電子學研究所，獲工學碩士學位

    工作簡歷：

    2013年 – 至今： 中國科學院微電子研究所研究員、博士生導師；國家科技重大專項“300mm晶圓勻膠顯影設(shè)備”首席科學家（沈陽芯源微電子設(shè)備公司）。

    2009年 – 2013年： 美國格羅方德紐約研發(fā)中心光刻經(jīng)理。

    2007年 – 2008年： 美國安智公司新澤西研發(fā)中心，高級科學家(Senior Staff Scientist)。

    2001年 – 2007年： 德國英飛凌公司美國紐約研發(fā)中心，高級工程師(Senior/Staff Engineer)。

    1998年 – 2001年： 美國能源部橡樹嶺國家實驗室，博士后

    社會任職：

    研究方向：

  • 193nm浸沒式光刻工藝；光學鄰近效應修正（optical proximity collection）；光刻材料研發(fā)和評估；勻膠顯影設(shè)備（track）研發(fā)

    承擔科研項目情況：

    代表論著：

  • Advanced processes for 193nm immersion lithography， SPIE Press 2009

    專利申請：

    獲獎及榮譽：