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當(dāng)前位置 首頁 人才隊(duì)伍
  • 姓名： 霍樹春
  • 性別： 男
  • 職稱： 副研究員
  • 職務(wù)： 
  • 學(xué)歷： 博士
  • 電話： 
  • 傳真： 
  • 電子郵件： huoshuchun@ime.ac.cn
  • 所屬部門： 光電技術(shù)研發(fā)中心
  • 通訊地址： 北京市朝陽區(qū)北土城西路3號(hào)

    簡(jiǎn)　　歷：

  • 教育背景?

    2012.09-2017.01 天津大學(xué)儀器科學(xué)與技術(shù)專業(yè)，博士?

    2014.12-2015.11 奧地利林茨大學(xué)實(shí)驗(yàn)物理研究所，聯(lián)合培養(yǎng)博士生
    ?
    工作簡(jiǎn)歷

    2021.05-今 中國(guó)科學(xué)院微電子研究所，副研究員?

    2018.05-2021.04 天津大學(xué)精密儀器與光電子工程學(xué)院，博士后?

    2017.06-2018.4??成都工業(yè)學(xué)院機(jī)械工程學(xué)院，講師?

    2011.08-2012.02 北航電磁兼容技術(shù)研究所，軟件工程師

    社會(huì)任職：

  • 1. 中國(guó)計(jì)量測(cè)試學(xué)會(huì)計(jì)量?jī)x器專業(yè)委員會(huì)
    2. 中國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)光電專委會(huì)委員
    3. 原子級(jí)制造論壇青年工作委員會(huì)委員

    研究方向：

  • ?集成電路光學(xué)測(cè)量技術(shù)及精密儀器

    承擔(dān)科研項(xiàng)目情況：

  • 1.國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃項(xiàng)目，課題“晶圓級(jí)自動(dòng)厚度驗(yàn)證裝置及鍵合晶圓測(cè)量應(yīng)用”，課題負(fù)責(zé)人，2022.11-2025.10

    2.國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃項(xiàng)目，“復(fù)雜微結(jié)構(gòu)三維光學(xué)顯微測(cè)量?jī)x”，子課題負(fù)責(zé)人，2021.12-2024.11

    3.國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室開放課題，“深硅刻蝕結(jié)構(gòu)幾何參數(shù)光學(xué)無損測(cè)量方法研究”，課題負(fù)責(zé)人，2021.09-2023.09

    4.國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃項(xiàng)目，“硅基MEMS高深寬比結(jié)構(gòu)多模式光學(xué)測(cè)量技術(shù)”，子任務(wù)/骨干，2020.01-2022.12

    5.國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃項(xiàng)目，“硅通孔三維集成質(zhì)量與可靠性評(píng)價(jià)關(guān)鍵技術(shù)研究”，子任務(wù)，2024.03-2027.02

    6.國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃項(xiàng)目，課題“批量測(cè)試與調(diào)理技術(shù)”，子任務(wù)，2022.12-2025.11

    7.國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃項(xiàng)目，課題“片上納米幾何量與電學(xué)量計(jì)量技術(shù)應(yīng)用示范”，子任務(wù)，2022.10-2025.11


    代表論著：

  • ?1)?S.C.Huo, H. Wang, C.G. Hu*, C.Y. Yao, W.F. Shen, X.D. Hu, X.T. Hu. Measuring the Multilayer Silicon based Microstructure Using Differential Reflectance Spectroscopy. Optics Express, 2021, 29(3): 3114-3122.

    2)?Chunguang Hu, Hao Wang, Yongtao Shen, Shuchun Huo*, Wanfu Shen, Xiaodong Hu and Xiaotang Hu, 

    Imaging layer thickness of large-area graphene using reference-aided optical differential reflection technique. 

    Optics Letters, 2020, Vol. 45 No. 15

    3)?Chunguang Hu, Hao Wang, Shuchun Huo*, Wanfu Shen, and Xiaotang Hu, Rapid reflectance difference 

    microscopy based on liquid crystal variable retarder, Journal of Vacuum Science & Technology B, 37, 050604 

    (2019)

    4)?C.G. Hu*, S.C. Huo, W.F. Shen, Y.N. Li, X.T. Hu. Reflectance difference microscopy for nanometre 

    thickness microstructure measurements. Journal of Microscopy, 2018, 270(3): 318-325.

    5)?S.C. Huo, C.G. Hu*, W.F. Shen, Y.N. Li, L.D. Sun, X.T. Hu. Normal-incidence reflectance difference 

    spectroscopy based on a liquid crystal variable retarder. Appl. Opt., 2016, 55(33): 9334-9340.

    6)?Chengyuan Yao, Shuchun Huo*, Wanfu Shen, Zhaoyang Sun, Xiaodong Hu, Xiaotang Hu, Chunguang Hu, Assessing the quality of polished brittle optical crystal using quasi-Brewster angle technique, Precision Engineering, 2021, Vol. 72, pp 184-191.

    專利申請(qǐng)：

  • 1.霍樹春，胡春光，王浩，胡曉東，胡小唐，測(cè)量納米薄膜厚度的顯微式差分反射光譜測(cè)量系統(tǒng)及方法，發(fā)明

    專利，CN111336932B

    2.霍樹春，胡春光，王浩，沈萬福，姚程源，曲正，武飛宇，胡曉東，胡小唐，用于納米厚度SiO2厚度的差分反射光譜測(cè)量方法，發(fā)明專利，CN111076668B

    獲獎(jiǎng)及榮譽(yù)：