| 專利名稱: | 干法工藝用的大面積均勻可調(diào)永磁磁路結(jié)構(gòu) |
| 專利類別: | |
| 申請?zhí)?/strong>: | 90109813.2 |
| 申請日期: | 1990-12-19 |
| 專利號: | CN1052571 |
| 第一發(fā)明人: | 羅澎 金鐘元 韓階平 馬俊如 |
| 其它發(fā)明人: | |
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| 國外申請方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
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| 實施情況: | |
| 專利證書號: | |
| 專利摘要: | 本發(fā)明涉及干法工藝用的大面積均勻可調(diào)永磁磁路結(jié)構(gòu)。本發(fā)明提供一種磁控反應離刻蝕機上施加磁場的永磁磁路結(jié)構(gòu)，該永磁磁路結(jié)構(gòu)設于反應室內(nèi)直接構(gòu)成磁場，由一對包括許多永磁磁鐵單元的極板，一個軟鐵回路以及角鐵組成。通過調(diào)整可使硅片刻蝕區(qū)形成均勻的強度可調(diào)的磁場。本發(fā)明磁路結(jié)構(gòu)簡單，可降低設備制造成本，提高精度，提高設備可靠性和易操作性。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出