| 專利名稱: | 一種用混合技術制作X光光刻掩模的方法 |
| 專利類別: | |
| 申請?zhí)?/strong>: | 94103513.1 |
| 申請日期: | 1994-04-19 |
| 專利號: | CN1110793 |
| 第一發(fā)明人: | 高士平 孫寶銀 程秀玲 |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國外申請日期: | |
| 國外申請方式: | |
| 專利授權日期: | |
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| 實施情況: | |
| 專利證書號: | |
| 專利摘要: | 一種用混合技術制作Ｘ光光刻掩模的方法，涉及一種制作含有深亞微米金吸體圖形的Ｘ光光刻掩模的方法，特別是涉及一種在掩模基片上制作三層結構，通過特殊設計的常規(guī)光刻掩模版的套準光刻和垂直定向刻蝕，采用常規(guī)電鍍和在圖形側面覆蓋金膜相結合的混合技術，制備含有深亞微米線寬的金吸收體圖形的Ｘ光光刻掩模的方法。 |
| 其它備注: | |
科研產出