專利名稱: | 在襯底上制備空氣橋的方法 |
專利類別: | |
申請?zhí)?/strong>: | 02141340.1 |
申請日期: | 2002-07-05 |
專利號: | CN1466189 |
第一發(fā)明人: | 劉訓(xùn)春 李無暇 王潤海 羅明雄 |
其它發(fā)明人: | |
國外申請日期: | |
國外申請方式: | |
專利授權(quán)日期: | |
繳費(fèi)情況: | |
實(shí)施情況: | |
專利證書號: | |
專利摘要: | 一種在襯底上制備空氣橋的方法,包括如下步驟:(1)在襯底上涂兩層光刻膠;(2)在上層光刻膠上曝光、顯影,獲得橋模圖形;(3)對下層刻蝕和氯苯浸泡,將上層的橋模圖形轉(zhuǎn)移到下層;(4)泛曝光、顯影去除剩余的上層膠;(5)在已形成橋模的襯底上,涂薄聚甲基丙烯酸甲酯-順丁烯二酐光刻膠光刻膠和厚正膠;經(jīng)曝光、反轉(zhuǎn)顯影使普通正性光刻膠形成布線圖形,等離子刻蝕去除布線圖形窗口內(nèi)的聚甲基丙烯酸甲酯-順丁烯二酐光刻膠;(6)蒸發(fā)金屬、剝離后形成空氣橋布線金屬。 |
其它備注: | |
科研產(chǎn)出