| 專利名稱: | 一種Ｘ射線圖形掩模 |
| 專利類別: | |
| 申請?zhí)?/strong>: | 93244852.6 |
| 申請日期: | 1993-11-22 |
| 專利號: | CN2177291 |
| 第一發(fā)明人: | 劉訓(xùn)春 陳夢真 葉甜春 錢鶴 王潤梅 王玉玲 孫寶銀 曹振亞 歐文 張學(xué) |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國外申請日期: | |
| 國外申請方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
| 繳費(fèi)情況: | |
| 實(shí)施情況: | |
| 專利證書號: | |
| 專利摘要: | 本實(shí)用新型公開了一種用于半導(dǎo)體器件與集成電路工藝的Ｘ射線圖形掩模，它在掩模線條的側(cè)邊設(shè)有能夠透過Ｘ射線的屬側(cè)向支撐體，基片可為氮化硅片，金屬圖形可以是金屬線條形成的圖形。這樣的結(jié)構(gòu)能夠提高掩模的合格率、可靠性以及使用壽命。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出