專利名稱: | 一種光開關(guān)的設(shè)計及制作工藝 |
專利類別: | |
申請?zhí)?/strong>: | 200610002666.6 |
申請日期: | 2006-01-26 |
專利號: | CN101008694 |
第一發(fā)明人: | 董立軍 陳大鵬 歐 易 景玉鵬 |
其它發(fā)明人: | |
國外申請日期: | |
國外申請方式: | |
專利授權(quán)日期: | |
繳費情況: | |
實施情況: | |
專利證書號: | |
專利摘要: | 本發(fā)明涉及光纖通訊和微細加工技術(shù)領(lǐng)域,特別是一種光開關(guān)的設(shè) 計及制作工藝。a.用LPCVD低壓化學(xué)氣象淀積在雙面拋光的硅片上雙面 淀積低應(yīng)力氮化硅厚度;b.正面光刻氮化硅懸臂梁圖形;c.RIE反 應(yīng)離子刻蝕形成氮化硅懸臂梁圖形;d.背面光刻出腐蝕窗口和光纖溝槽 腐蝕窗口;e.RIE反應(yīng)離子刻蝕形成腐蝕窗口和光纖溝槽腐蝕窗口;f.涂 膠光刻并電子束蒸發(fā)金薄膜;g.顯影剝離形成金電極;h.KOH溶液在 80攝氏度下腐蝕8小時形成氮化硅懸臂梁和光纖溝槽;i.光刻,電子束 蒸發(fā)剝離形成下極板;j.鍵和兩片硅片。 |
其它備注: | |
科研產(chǎn)出