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專利名稱: 一種光開關(guān)的設(shè)計及制作工藝
專利類別:
申請?zhí)?/strong>: 200610002666.6
申請日期: 2006-01-26
專利號: CN101008694
第一發(fā)明人: 董立軍 陳大鵬 歐 易 景玉鵬
其它發(fā)明人:
國外申請日期:
國外申請方式:
專利授權(quán)日期:
繳費情況:
實施情況:
專利證書號:
專利摘要: 本發(fā)明涉及光纖通訊和微細加工技術(shù)領(lǐng)域,特別是一種光開關(guān)的設(shè)
計及制作工藝。a.用LPCVD低壓化學(xué)氣象淀積在雙面拋光的硅片上雙面
淀積低應(yīng)力氮化硅厚度;b.正面光刻氮化硅懸臂梁圖形;c.RIE反
應(yīng)離子刻蝕形成氮化硅懸臂梁圖形;d.背面光刻出腐蝕窗口和光纖溝槽
腐蝕窗口;e.RIE反應(yīng)離子刻蝕形成腐蝕窗口和光纖溝槽腐蝕窗口;f.涂
膠光刻并電子束蒸發(fā)金薄膜;g.顯影剝離形成金電極;h.KOH溶液在
80攝氏度下腐蝕8小時形成氮化硅懸臂梁和光纖溝槽;i.光刻,電子束
蒸發(fā)剝離形成下極板;j.鍵和兩片硅片。
其它備注: