| 專利名稱: | 一種高分辨率自支撐全鏤空透射光柵的制作方法 |
| 專利類別: | |
| 申請?zhí)?/strong>: | 200610003067.6 |
| 申請日期: | 2006-02-08 |
| 專利號: | CN101017214 |
| 第一發(fā)明人: | 謝常青 葉甜春 |
| 其它發(fā)明人: | |
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| 專利授權(quán)日期: | |
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| 專利證書號: | |
| 專利摘要: | 一種X射線衍射光學(xué)組件—高分辨率自支撐全鏤空透射光柵的制 作方法，步驟如下：1.在自支撐X射線掩模襯基上淀積薄鉻薄金層；2. 在薄鉻薄金層表面上甩電子束光刻膠，得到光柵圖形；3.所得片子放在 電鍍液中電鍍出X射線掩模吸收體金圖形；4.所得片子去除電子束光 刻膠；5.再去除電子束光刻膠圖形下的薄鉻薄金層；6.玻璃上旋涂聚酰亞 胺，并固化；7.在聚酰亞胺表面上淀積金；8.在金表面旋涂X射線光 刻膠，完成的高分辨率光柵X射線掩模進行X射線光刻并顯影；9.對 X射線光刻后的片子進行金去除；10.去除聚酰亞胺；11.去除X射線 光刻膠；12.背面腐蝕透玻璃；完成高分辨率自支撐全鏤空透射光柵的 制作。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出