| 專利名稱: | 一種電子束對準標記的制作方法及其應(yīng)用 |
| 專利類別: | |
| 申請?zhí)?/strong>: | 200610127868.3 |
| 申請日期: | 2006-09-22 |
| 專利號: | CN101149563 |
| 第一發(fā)明人: | 劉果果 和致經(jīng) 魏 珂 劉新宇 鄭英奎 |
| 其它發(fā)明人: | |
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| 專利摘要: | 本發(fā)明公開了一種電子束對準標記的制作方法，采用Ti/Pt金屬結(jié)構(gòu) 作為對準標記的金屬結(jié)構(gòu)，對襯底材料采用光刻方法進行光刻，在襯底材 料最頂層的鋁鎵氮外延層形成電子束對準標記。本發(fā)明同時公開了一種利 用電子束對準標記制作有效柵線條方法，A.對襯底材料采用光刻方法進 行光刻，形成電子束對準標記，并蒸發(fā)標記金屬Ti/Pt；B.對襯底材料采 用光刻方法進行光刻，形成源漏圖形，并蒸發(fā)源漏金屬；C.退火合金， 形成良好的歐姆接觸；D.有源區(qū)離子注入隔離；E.電子束光刻，完成柵 線條曝光；F.蒸發(fā)柵金屬，形成有效柵線條。利用本發(fā)明，有效解決了 高溫退火后對準標記金屬形貌發(fā)生變化而導致電子束曝光機無法準確辨 認對準標記的問題。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出