專利名稱: | 一種抗水流沖擊的體硅腐蝕配套設(shè)備 |
專利類別: | |
申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 200710064861.6 |
申請(qǐng)日期: | 2007-03-28 |
專利號(hào): | CN101274742 |
第一發(fā)明人: | 石莎莉 陳大鵬 景玉鵬 歐 毅 葉甜春 |
其它發(fā)明人: | |
國(guó)外申請(qǐng)日期: | |
國(guó)外申請(qǐng)方式: | |
專利授權(quán)日期: | |
繳費(fèi)情況: | |
實(shí)施情況: | |
專利證書號(hào): | |
專利摘要: | 本發(fā)明涉及一種抗水流沖擊的體硅腐蝕配套設(shè)備,尤指一種對(duì)MEMS 體硅腐蝕設(shè)備——恒溫腐蝕設(shè)備和恒溫加超聲腐蝕設(shè)備的缺陷加以改進(jìn) 的體硅腐蝕配套設(shè)備。本發(fā)明中,被固定的腐蝕槽的底部設(shè)有與具有開關(guān) 的導(dǎo)流管的一端連通的開口,導(dǎo)流管的另一端連接到腐蝕液容器,且放置 硅片的石英架固定在腐蝕槽的靠近敞口的位置;所述腐蝕槽的內(nèi)部空間呈 幾何對(duì)稱,且腐蝕槽的豎直對(duì)稱軸通過所述腐蝕槽底部開口的中心;所述 石英架上放置有硅片時(shí),硅片的中心對(duì)稱軸與所述腐蝕槽的豎直對(duì)稱軸 重合。本發(fā)明還可以在所述腐蝕槽中在硅片兩側(cè)對(duì)稱地設(shè)置有加熱器。由 此,在硅片兩側(cè)可以形成對(duì)稱的水流流速場(chǎng)和壓力場(chǎng),并可以避免對(duì)硅片 的不必要的熱沖擊。 |
其它備注: | |
科研產(chǎn)出