| 專利名稱: | 一種晶體管T型納米柵的制作方法 |
| 專利類別: | |
| 申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 200710064854.6 |
| 申請(qǐng)日期: | 2007-03-28 |
| 專利號(hào): | CN101276750 |
| 第一發(fā)明人: | 劉 亮 張海英 劉訓(xùn)春 |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)日期: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
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| 實(shí)施情況: | |
| 專利證書號(hào): | |
| 專利摘要: | 本發(fā)明公開了一種晶體管T型納米柵的制作方法，該方法包括：A、 在清洗干凈的外延片上淀積一層氮化硅或二氧化硅介質(zhì)；B、在所述氮化 硅或二氧化硅介質(zhì)上勻第一層電子束膠ZEP520A，然后前烘；C、在所述 第一層電子束膠ZEP520A上勻一層易于實(shí)現(xiàn)去膠和剝離的第二層電子束 膠，然后前烘；D、在所述第二層電子束膠上勻第三層電子束膠ZEP520A， 然后前烘；E、進(jìn)行柵版電子束曝光；F、依次顯影第三層電子束膠ZEP520A， 易于實(shí)現(xiàn)去膠和剝離的第二層電子束膠和第一層電子束膠ZEP520A；G、 等離子刻蝕所述氮化硅或二氧化硅介質(zhì)；H、腐蝕柵槽，蒸發(fā)柵金屬并剝 離，形成晶體管T型納米柵。利用本發(fā)明，不存在套刻對(duì)準(zhǔn)問題，工藝簡(jiǎn) 單，容易制作出小尺寸的柵線條，可靠性強(qiáng)。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出