| 專利名稱: | 一種微機(jī)電系統(tǒng)磁執(zhí)行器的制作方法 |
| 專利類別: | |
| 申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 200710121074.0 |
| 申請(qǐng)日期: | 2007-08-29 |
| 專利號(hào): | CN101376489 |
| 第一發(fā)明人: | 易 亮 歐 毅 陳大鵬 景玉鵬 葉甜春 |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)日期: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
| 繳費(fèi)情況: | |
| 實(shí)施情況: | |
| 專利證書(shū)號(hào): | |
| 專利摘要: | 本發(fā)明涉及微機(jī)電系統(tǒng)微型執(zhí)行器技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種微機(jī)電系統(tǒng) 磁執(zhí)行器的制作方法，包括：A.在硅芯片下表面上淀積氮化硅薄膜，上 表面上淀積氧化硅薄膜；B.保護(hù)正面，背面光刻，刻蝕形成氮化硅薄膜 窗口；C.正面光刻，刻蝕形成氮化硅薄膜執(zhí)行器圖形；D.正面光刻， 打底膠，電子束蒸發(fā)Cr/Au，剝離形成金屬線圈及電極；E.正面光刻， 打底膠，蒸發(fā)種子層，電鍍金；F.正面光刻，打底膠，去金去鉻；G.正 面泛曝，顯影，打底膠，保護(hù)正面，腐蝕背面體硅直到氧化硅層；H.腐 蝕氧化硅，釋放執(zhí)行器。本發(fā)明利用磁力為推動(dòng)力，增強(qiáng)了執(zhí)行器偏移振 動(dòng)能力，利用光刻膠作為絕緣材料，簡(jiǎn)化了制作工藝，避免了可能存在的 應(yīng)力、熱效應(yīng)等問(wèn)題。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出