| 專利名稱: | TaN材料腐蝕溶液以及TaN材料腐蝕方法 |
| 專利類別: | |
| 申請?zhí)?/strong>: | 200810223349.6 |
| 申請日期: | 2008-09-26 |
| 專利號: | CN101397499 |
| 第一發(fā)明人: | 李永亮 徐秋霞 |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國外申請日期: | |
| 國外申請方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
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| 實施情況: | |
| 專利證書號: | |
| 專利摘要: | 本發(fā)明是關(guān)于一種TaN材料腐蝕溶液以及TaN材料腐蝕方法。該TaN 材料腐蝕溶液，以重量百分比計包括：NH4OH：1.47％-7.26％；H2O2： 3.00％-24.91％；以及余量的水。所述的TaN材料腐蝕方法，是對于厚度小 于400埃的TaN可采用光刻膠作為掩膜，先以重量百分含量為3.25％-10.44％ 的HF、7.17％-21.95％的HNO3以及余量的水組成的溶液對TaN材料進行腐蝕， 再以重量百分含量為1.47％-7.26％的NH4OH，3.00％-24.91％的H2O2以及余量 的水組成的溶液對TaN材料進行腐蝕；對于厚度大于400埃的TaN，必須采 用硬掩膜，直接以重量百分含量為1.47％-7.26％的NH4OH，3.00％-24.91％的 H2O2以及余量的水組成的溶液對TaN材料進行腐蝕。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出