| 專利名稱: | 溫室型非制冷紅外焦平面陣列 |
| 專利類別: | |
| 申請?zhí)?/strong>: | 200810223350.9 |
| 申請日期: | 2008-09-26 |
| 專利號(hào): | CN101398330 |
| 第一發(fā)明人: | 董立軍 |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國外申請日期: | |
| 國外申請方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
| 繳費(fèi)情況: | |
| 實(shí)施情況: | |
| 專利證書號(hào): | |
| 專利摘要: | 本發(fā)明公開了一種溫室型非制冷紅外焦平面陣列，包括密閉的封裝殼 體，所述封裝殼體一面為鍺玻璃窗口，另一面為光學(xué)玻璃窗口，所述封裝 殼體內(nèi)充滿高紅外吸收率的溫室氣體或液體，封裝殼體中間自上而下貫穿 設(shè)置有一個(gè)焦平面陣列成像單元，焦平面陣列成像單元完全被氣體或液體 包圍，所述焦平面陣列成像單元由雙材料梁和反光板構(gòu)成，雙材料梁靠近 光學(xué)玻璃窗口的一側(cè)安裝有一個(gè)反光板，所述雙材料梁為梳齒狀陣列，由 多個(gè)均勻間隔分布的梳齒條構(gòu)成，每個(gè)梳齒條均由熱膨脹系數(shù)相差很大的 兩種材料構(gòu)成。它用氣體或者液體作為紅外輻射的吸收材料，是一個(gè)覆蓋 全部大氣窗口的新型紅外焦平面陣列，同時(shí)具有雙材料梁，具有成本低的 優(yōu)點(diǎn)。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出