專利名稱: | 一種納米級(jí)溝道有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管及其制備方法 |
專利類別: | |
申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 200810227456.6 |
申請(qǐng)日期: | 2008-11-25 |
專利號(hào): | CN101425562 |
第一發(fā)明人: | 商立偉 劉 明 涂德鈺 劉 舸 劉興華 |
其它發(fā)明人: | |
國(guó)外申請(qǐng)日期: | |
國(guó)外申請(qǐng)方式: | |
專利授權(quán)日期: | |
繳費(fèi)情況: | |
實(shí)施情況: | |
專利證書號(hào): | |
專利摘要: | 本發(fā)明屬于有機(jī)電子技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種納米級(jí)溝道有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體 管及其制備方法。為了克服現(xiàn)有技術(shù)中成本高的缺陷,本發(fā)明提供一種納米級(jí) 溝道有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管,包括絕緣襯底上的源電極、絕緣層、漏電極、有機(jī)半 導(dǎo)體層、柵介質(zhì)層和柵電極,所述源電極、有機(jī)半導(dǎo)體層、柵介質(zhì)層和柵電極 從左至右依次設(shè)置在絕緣襯底的上表面上;所述源電極上方從下到上依次設(shè)有 絕緣層和漏電極,分別與有機(jī)半導(dǎo)體層接觸;所述源電極、絕緣層和漏電極合 起來的厚度與有機(jī)半導(dǎo)體層、柵介質(zhì)層和柵電極的厚度相同。本發(fā)明通過控制 絕緣層的厚度來控制器件的溝道長(zhǎng)度,避免了昂貴的電子束光刻,大幅度地降 低制備納米級(jí)溝道有機(jī)晶體管的難度,從而減少了制備的成本。 |
其它備注: | |
科研產(chǎn)出