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專利名稱: 基于單晶硅PN結(jié)的非制冷紅外探測器陣列及其制備方法
專利類別:
申請?zhí)?/strong>: 200810240275.7
申請日期: 2008-12-18
專利號: CN101441112
第一發(fā)明人: 何 偉 明安杰 薛惠瓊 焦斌斌 歐 毅 陳大鵬
其它發(fā)明人:
國外申請日期:
國外申請方式:
專利授權(quán)日期:
繳費情況:
實施情況:
專利證書號:
專利摘要: 本發(fā)明涉及一種基于單晶硅PN結(jié)溫度特性的非制冷紅外探測器陣列及
其制備方法。該陣列的制備方法包括:步驟A.硅片氧化還原,在縱向形成
所述底硅層,埋氧層與頂硅層,同時通過底硅刻蝕,形成深槽,填充及平坦
化,以在橫向劃分紅外探測單元;步驟B.在每一紅外探測單元中的頂硅層
設(shè)置數(shù)個串聯(lián)的單晶硅PN結(jié);步驟C.在每一紅外探測單元中形成所述電氣
連接布線,在所述單晶硅PN結(jié)與所述電氣連接線上形成鈍化層;步驟D、
在每一紅外探測單元中制作懸空的絕熱懸臂梁,刻蝕所述底硅層,形成所述
空腔。本發(fā)明利用單晶硅PN結(jié)的良好的溫度特性,通過測量單晶硅PN結(jié)兩
端的電壓的變化,以獲得紅外輻射強(qiáng)弱的探測結(jié)果。
其它備注: