| 專(zhuān)利名稱(chēng): | 一種半導(dǎo)體制冷的超臨界二氧化碳清洗裝置 |
| 專(zhuān)利類(lèi)別: | |
| 申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 200710178323.X |
| 申請(qǐng)日期: | 2007-11-28 |
| 專(zhuān)利號(hào): | CN101447396 |
| 第一發(fā)明人: | 劉茂哲 高超群 李金寶 景玉鵬 李超波 |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)日期: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)方式: | |
| 專(zhuān)利授權(quán)日期: | |
| 繳費(fèi)情況: | |
| 實(shí)施情況: | |
| 專(zhuān)利證書(shū)號(hào): | |
| 專(zhuān)利摘要: | 本發(fā)明公開(kāi)了一種半導(dǎo)體制冷的超臨界二氧化碳清 洗裝置，該裝置包括：超臨界清洗室，用于硅片的清洗，由高壓反應(yīng) 室4和溫度控制室5組成；其中，所述高壓反應(yīng)室4位于溫度控制室5 的上方，用于盛放硅片支架，提供二氧化碳?xì)饣逑吹姆磻?yīng)室；溫度 控制室5通過(guò)蒸發(fā)器盤(pán)管與高壓反應(yīng)室4相連，實(shí)現(xiàn)高壓反應(yīng)室4的 制冷和加熱；分離減壓室6，通過(guò)管道與高壓反應(yīng)室4相連，用于減壓 后將醇類(lèi)與二氧化碳分離，并循環(huán)使用；所述超臨界清洗室與分離減 壓室6通過(guò)支座臺(tái)2固定連接。利用本發(fā)明，解決了微電子工藝中的 半導(dǎo)體清洗問(wèn)題，并降低了對(duì)襯底的損傷，循環(huán)使用二氧化碳達(dá)到了 節(jié)約能源的目的。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出