| 專利名稱: | 平板式等離子體增強化學汽相淀積設備的反應室結(jié)構(gòu) |
| 專利類別: | |
| 申請?zhí)?/strong>: | 200710303894.1 |
| 申請日期: | 2007-12-26 |
| 專利號: | CN101469414 |
| 第一發(fā)明人: | 劉訓春 周宗義 李 兵 張育勝 王 佳 張永利 |
| 其它發(fā)明人: | |
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| 專利授權(quán)日期: | |
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| 專利證書號: | |
| 專利摘要: | 本發(fā)明一種平板式等離子體增強化學汽相淀積(PECVD)設備的反應 室結(jié)構(gòu)，涉及微電子技術(shù)，是由內(nèi)真空室與外腔室嵌套組成；內(nèi)真空室上 段的頂壁由具有伸縮功能的波紋管與外腔室連接；內(nèi)真空室上段的頂壁外 側(cè)通過螺桿與外腔室頂面的堵轉(zhuǎn)電機連接，以堵轉(zhuǎn)電機控制內(nèi)真空室上段 的升降；內(nèi)真空室的工作壓強高于外腔室。反應室內(nèi)真空室中的載片盤與 內(nèi)真空室下段的側(cè)壁不接觸，避免載片臺上的熱量向外壁傳導，以便載片 臺可以很快加熱到很高的溫度。本發(fā)明的反應室結(jié)構(gòu)可以避免系統(tǒng)漏氣的 影響，明顯地改善淀積薄膜的質(zhì)量，降低粉塵；有利于提高襯底溫度和新 材料的生長。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出