| 專利名稱: | 基于X射線曝光技術(shù)制作透光納米壓印模板的方法 |
| 專利類別: | |
| 申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 200810100954.4 |
| 申請(qǐng)日期: | 2008-02-27 |
| 專利號(hào): | CN101520600 |
| 第一發(fā)明人: | 劉興華 徐德鈺 朱效立 謝常青 劉 明 |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)日期: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
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| 實(shí)施情況: | |
| 專利證書號(hào): | |
| 專利摘要: | 本發(fā)明公開了一種基于X射線曝光技術(shù)制作透光納米壓印模板的 方法，透明納米壓印模板是由電子束光刻制成納米X射線曝光模版， 該方法通過X射線曝光，將納米圖形轉(zhuǎn)移到不導(dǎo)電的石英作為襯底的 光刻膠上，顯影后通過蒸發(fā)金屬、剝離工藝，得到石英襯底上的金屬 納米圖形，將金屬作為阻擋層使用反應(yīng)離子刻蝕石英，得到石英上的 納米圖形，去除金屬完成透光納米壓印模板的制作。本發(fā)明解決了無 法在不導(dǎo)電的襯底上電子束光刻得到高分辨率圖形的問題。同時(shí)，本 發(fā)明實(shí)現(xiàn)了透光納米壓印模板，為納米壓印提供了方便的對(duì)準(zhǔn)手段， 使紫外固化納米壓印成為可能。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出