| 專利名稱: | 實(shí)現(xiàn)ZnO納米線到場效應(yīng)管襯底的定位方法 |
| 專利類別: | |
| 申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 200810103255.5 |
| 申請(qǐng)日期: | 2008-04-02 |
| 專利號(hào): | CN101552205 |
| 第一發(fā)明人: | 黎 明 張海英 付曉君 徐靜波 |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國外申請(qǐng)日期: | |
| 國外申請(qǐng)方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
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| 實(shí)施情況: | |
| 專利證書號(hào): | |
| 專利摘要: | 本發(fā)明公開了一種實(shí)現(xiàn)ZnO納米線到場效應(yīng)管襯底的定位方法， 該方法包括：在場效應(yīng)管襯底上采用正性光刻膠和十字陽版光刻，顯 影形成按照一定規(guī)律排列的十字；蒸發(fā)Ti/Au形成金屬十字Marker以 及十字兩側(cè)的隊(duì)列標(biāo)記；采用超聲乙醇水解法將ZnO納米線從原生長 襯底上剝離；采用滴管將包含ZnO納米線的液滴滴入所述金屬十字 Marker中央，利用十字marker和兩側(cè)的隊(duì)列標(biāo)記定位出納米線所在的 位置。利用本發(fā)明，實(shí)現(xiàn)了ZnO納米線從原玻璃襯底到場效應(yīng)管襯底 的沉積和定位，解決了ZnO納米線上沉積到器件襯底后的雜亂排列的 問題，實(shí)現(xiàn)了納米線的精確定位。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出