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專利名稱: 一種制備ZnO頂柵納米線場(chǎng)效應(yīng)管的方法
專利類別:
申請(qǐng)?zhí)?/strong>: 200810103258.9
申請(qǐng)日期: 2008-04-02
專利號(hào): CN101552207
第一發(fā)明人: 黎 明 張海英 付曉君 徐靜波
其它發(fā)明人:
國(guó)外申請(qǐng)日期:
國(guó)外申請(qǐng)方式:
專利授權(quán)日期:
繳費(fèi)情況:
實(shí)施情況:
專利證書號(hào):
專利摘要: 本發(fā)明公開(kāi)了一種制備ZnO頂柵納米線場(chǎng)效應(yīng)管的方法,該方法
包括:A.在襯底上生長(zhǎng)SiO2介質(zhì)層,涂膠、前烘,RIE打底膠,采
用十字或凹槽版對(duì)襯底進(jìn)行光刻;B.將ZnO納米線從原襯底上剝離,
滴到場(chǎng)效應(yīng)晶體管襯底上進(jìn)行沉積,利用ZnO納米線作為場(chǎng)效應(yīng)晶體
管的溝道;C.涂膠,進(jìn)行源漏制備,蒸發(fā)金屬Ti/Au與ZnO納米線
形成歐姆接觸電極;D.采用濺射Al2O3后光刻膠剝離的方法形成柵氧;
E.光刻?hào)艞l形成柵極。本發(fā)明具有成效明顯,工藝簡(jiǎn)單易行,經(jīng)濟(jì)適
用和可靠性強(qiáng)的優(yōu)點(diǎn),容易在微波、毫米波化合物半導(dǎo)體器件制作中
采用和推廣。
其它備注: