| 專利名稱: | 基于方波導(dǎo)的2×2單面雙鰭線陣的制作方法 |
| 專利類別: | |
| 申請?zhí)?/strong>: | 200810103650.3 |
| 申請日期: | 2008-04-09 |
| 專利號: | CN101556623 |
| 第一發(fā)明人: | 武 錦 歐陽思華 劉新宇 閻躍鵬 |
| 其它發(fā)明人: | |
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| 專利授權(quán)日期: | |
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| 專利摘要: | 本發(fā)明公開了一種基于方波導(dǎo)的2×2單面雙鰭線陣的制作方法， 包括：建立2×2單面雙鰭線陣的仿真模型，對該仿真模型進行仿真得 到2×2單面雙鰭線陣的散射特性；將Klopfenstein理論應(yīng)用在鰭線結(jié)構(gòu) 中，根據(jù)數(shù)值迭代方法得到固定長度的反射系數(shù)最小的鰭線結(jié)構(gòu)，通 過商用計算軟件得到雙鰭線的橫向節(jié)點所對應(yīng)的有效介電常數(shù)；將得 到的有效介電常數(shù)與散射特性進行結(jié)合，得到鰭線不同節(jié)點處對應(yīng)的 鰭縫隙的寬度，進而得到鰭線的鰭縫隙隨橫向節(jié)點的變換曲線，通過 商用繪圖軟件繪制該曲線，得到優(yōu)化后的基于方波導(dǎo)的2×2單面雙鰭 線陣。本發(fā)明有效的避免了復(fù)雜的數(shù)值計算，采用成熟的電磁場仿真 軟件，縮短了設(shè)計周期。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出