| 專利名稱: | 一種微型波導(dǎo)的制備方法 |
| 專利類別: | |
| 申請?zhí)?/strong>: | 200910302627.1 |
| 申請日期: | 2009-05-26 |
| 專利號: | CN101557028 |
| 第一發(fā)明人: | 王顯泰 金 智 郭建楠 吳旦昱 |
| 其它發(fā)明人: | |
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| 國外申請方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
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| 專利證書號: | |
| 專利摘要: | 本發(fā)明涉及半導(dǎo)體工藝和MEMS工藝技術(shù)領(lǐng)域的一種微型波導(dǎo)的制備方法，所述方法包括 ：在基片上制作微型波導(dǎo)的底面金屬壁；在制作完底面金屬壁的基片上制作微型波導(dǎo)側(cè)壁膠 圖形；在所述微型波導(dǎo)側(cè)壁膠圖形的側(cè)面和頂面制作微型波導(dǎo)側(cè)壁和頂壁的起鍍層；在所述 起鍍層上制作電鍍保護膠膜，并將制作微型波導(dǎo)側(cè)壁和頂壁的區(qū)域暴露出來；對所述起鍍層 進行電鍍，并形成微型波導(dǎo)側(cè)壁和頂壁；去除所述側(cè)壁膠圖形、電鍍保護膠膜及未電鍍的起 鍍層，得到微型波導(dǎo)腔體。采用本發(fā)明可以有效控制貴金屬微型波導(dǎo)制作中的工藝和材料成 本，所制作的微型波導(dǎo)可以實現(xiàn)較大的高度，同時本發(fā)明所采用的基本工藝步驟是常用技術(shù) ，工藝兼容性好。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出