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專利名稱: 一次編程存儲(chǔ)器及其制造方法
專利類別:
申請(qǐng)?zhí)?/strong>: 200910303069.0
申請(qǐng)日期: 2009-06-09
專利號(hào): CN101577311
第一發(fā)明人: 劉 明 左青云 龍世兵
其它發(fā)明人:
國外申請(qǐng)日期:
國外申請(qǐng)方式:
專利授權(quán)日期:
繳費(fèi)情況:
實(shí)施情況:
專利證書號(hào):
專利摘要: 本發(fā)明涉及一次編程存儲(chǔ)器及其制造方法,屬于微電子技術(shù)領(lǐng)域。該一次編程存儲(chǔ)器包
括下電極、上電極以及位于上電極和下電極之間的功能層薄膜;上電極或下電極與功能層薄
膜之間接觸形成整流特性。該一次編程存儲(chǔ)器的制造方法包括:形成作為下電極的襯底;在
襯底上形成功能層薄膜;在功能層薄膜上進(jìn)行光刻并淀積導(dǎo)電材料,剝離后形成上電極;上
電極或下電極與功能層薄膜之間接觸形成整流特性。本發(fā)明降低了存儲(chǔ)器的制作成本,有利
于存儲(chǔ)器的集成和使用;存儲(chǔ)器器件能夠采用交叉陣列結(jié)構(gòu)集成,提高了存儲(chǔ)器密度;存儲(chǔ)
器本身具有整流作用,無需外加的整流器件,消除外加整流器件對(duì)存儲(chǔ)器的影響,抑制讀串
擾。
其它備注: