| 專利名稱: | 采用電子束直寫曝光制作聲表面波器件的方法 |
| 專利類別: | |
| 申請?zhí)?/strong>: | 200810222329.7 |
| 申請日期: | 2008-09-17 |
| 專利號: | CN101676797 |
| 第一發(fā)明人: | 趙以貴 劉明 牛潔斌 |
| 其它發(fā)明人: | |
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| 專利授權日期: | |
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| 專利證書號: | |
| 專利摘要: | 本發(fā)明公開了一種采用電子束直寫曝光制作聲表面波器件的方法，該 方法是利用電子束光刻在壓電襯底上獲得叉指換能器的電子抗蝕劑凹立 圖形，然后再用剝離工藝制作各種聲表面波器件。具體步驟包括：在壓電 襯底上涂敷電子抗蝕劑；前烘；生長對電子束曝光背散射小的金屬材料； 電子束直寫曝光；去除金屬層；顯影；定影；生長叉指電極金屬；剝離。 采用這種方法制作的叉指電極的邊緣陡直，寬度控制好，可用于制作特征 線寬在500nm以下各種聲表面波器件。這種方法具有工藝步驟少、簡單、 穩(wěn)定可靠的優(yōu)點。 |
| 其它備注: | |
科研產出