| 專利名稱: | 一種制作微透鏡陣列的方法 |
| 專利類別: | |
| 申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 200810222332.9 |
| 申請(qǐng)日期: | 2008-09-17 |
| 專利號(hào): | CN101676798 |
| 第一發(fā)明人: | 董立軍 |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)日期: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
| 繳費(fèi)情況: | |
| 實(shí)施情況: | |
| 專利證書號(hào): | |
| 專利摘要: | 本發(fā)明公開(kāi)了一種制作微透鏡陣列的方法，該方法包括：在透明襯底 上勻一層光刻膠；對(duì)該光刻膠層進(jìn)行曝光顯影，形成方形的光刻膠塊； 熔融該方形光刻膠塊并迅速冷卻至室溫，形成具有微透鏡形狀的光刻膠掩 膜；從透明襯底具有微透鏡形狀光刻膠掩膜的一面進(jìn)行離子注入，在透明 襯底中形成具有不同折射率的兩層材料，其中一層材料具有微透鏡形狀； 去除透明襯底上的光刻膠掩膜，形成具有不同折射率兩種材料并且具有微 透鏡的陣列結(jié)構(gòu)。利用本發(fā)明，可以制作多層透鏡陣列，并能夠與傳統(tǒng)的 集成電路離子注入光刻工藝相集成，適合大規(guī)模生產(chǎn)。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出