專(zhuān)利名稱(chēng): | 用于表征硅與二氧化硅界面特性的光學(xué)系統(tǒng)及方法 |
專(zhuān)利類(lèi)別: | |
申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 200810224907.0 |
申請(qǐng)日期: | 2008-10-24 |
專(zhuān)利號(hào): | CN101726496A |
第一發(fā)明人: | 畢津順 海潮和 韓鄭生 |
其它發(fā)明人: | |
國(guó)外申請(qǐng)日期: | |
國(guó)外申請(qǐng)方式: | |
專(zhuān)利授權(quán)日期: | |
繳費(fèi)情況: | |
實(shí)施情況: | |
專(zhuān)利證書(shū)號(hào): | |
專(zhuān)利摘要: | 本發(fā)明公開(kāi)了一種用于表征硅與二氧化硅界面特性的光學(xué)系統(tǒng),包括:由硅材料與二氧化硅材料形成的待測(cè)樣品,該待測(cè)樣品中具有一硅材料與二氧化硅材料形成的界面;位于待測(cè)樣品靠近二氧化硅材料一側(cè)的激光產(chǎn)生裝置,用于產(chǎn)生向待測(cè)樣品以一定角度入射的入射激光;位于入射激光光路上的掩蔽物開(kāi)關(guān),用于掩蔽或允許入射激光向待測(cè)樣品入射;位于入射激光經(jīng)待測(cè)樣品中界面反射后形成的反射激光光路上的棱鏡,用于分離不同波長(zhǎng)的反射激光,使波長(zhǎng)為400nm的反射激光入射到光電倍增管;位于棱鏡出射激光光路上的光電倍增管,用于接收棱鏡分離出的波長(zhǎng)為400nm的反射激光。本發(fā)明同時(shí)公開(kāi)了一種用于表征硅與二氧化硅界面特性的光學(xué)方法。 |
其它備注: | |
科研產(chǎn)出