| 專利名稱: | 半導(dǎo)體二氧化碳超臨界吹掃清洗機 |
| 專利類別: | |
| 申請?zhí)?/strong>: | 200810226688.X |
| 申請日期: | 2008-11-19 |
| 專利號: | CN101740337A |
| 第一發(fā)明人: | 惠瑜 景玉鵬 |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國外申請日期: | |
| 國外申請方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
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| 專利證書號: | |
| 專利摘要: | 本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體二氧化碳超臨界吹掃清洗機，其清洗腔內(nèi)有磁動旋轉(zhuǎn)裝置。二氧化碳超臨界流體具有零表面張力、低粘滯度、強擴(kuò)散能力和溶解能力，可以對硅片上的微細(xì)結(jié)構(gòu)進(jìn)行有效清洗和超臨界干燥。該半導(dǎo)體二氧化碳超臨界吹掃清洗機的主要結(jié)構(gòu)是清洗腔，在設(shè)計中通過加入磁旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)，配合噴嘴，可以達(dá)到理想的清洗效果。該設(shè)備的開發(fā)和研制，可以大大推動半導(dǎo)體清洗技術(shù)的發(fā)展。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出