| 專利名稱: | 綠色二氧化碳超臨界流體半導體清洗設(shè)備 |
| 專利類別: | |
| 申請?zhí)?/strong>: | 200810227485.2 |
| 申請日期: | 2008-11-26 |
| 專利號: | CN101740342A |
| 第一發(fā)明人: | 景玉鵬 高超群 |
| 其它發(fā)明人: | |
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| 國外申請方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
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| 專利證書號: | |
| 專利摘要: | 本發(fā)明公開了一種二氧化碳超臨界流體半導體清洗設(shè)備，用于半導體硅片的無水清洗。該設(shè)備包括進行超臨界流體清洗和超臨界干燥的主工作室、分離二氧化碳和清洗廢液的分離室、存放增強清洗效果的清洗劑及助溶劑的暫存罐和對二氧化碳進行壓縮、散熱和存儲的二氧化碳循環(huán)控制系統(tǒng)等幾大部分。各部分通過帶閥門的管道進行連接。在少量有機溶劑的配合下，以無表面張力的二氧化碳超流體為清洗媒體和漂洗液，深入微小孔隙獲得良好的清洗和干燥效果。利用本發(fā)明提供的設(shè)備，避免了純水的大量消耗和化學藥劑帶來的污染，解決了傳統(tǒng)工藝中由于表面張力造成的結(jié)構(gòu)變形和顆粒吸附等問題，而且二氧化碳循環(huán)使用減少了溫室氣體的大量排放。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出