| 專利名稱: | 一種制備過(guò)孔的方法 |
| 專利類別: | |
| 申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 200810240081.7 |
| 申請(qǐng)日期: | 2008-12-17 |
| 專利號(hào): | CN101752300A |
| 第一發(fā)明人: | 劉舸 劉明 劉興華 商立偉 王宏 柳江 |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)日期: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
| 繳費(fèi)情況: | |
| 實(shí)施情況: | |
| 專利證書(shū)號(hào): | |
| 專利摘要: | 本發(fā)明公開(kāi)了一種制備過(guò)孔的方法，包括：在絕緣襯底上涂敷光刻膠；光刻得到柵電極圖形；電子束蒸發(fā)或者PECVD沉積金屬電極；用丙酮?jiǎng)冸x不需要的金薄膜得到器件的柵電極圖形；在柵電極上勻膠后再次光刻得到過(guò)孔圖形；電子束蒸發(fā)過(guò)孔金屬；剝離后再淀積柵介質(zhì)材料；再次光刻得到柵介質(zhì)上互連線的膠圖形；電子束蒸發(fā)連線金屬，剝離后實(shí)現(xiàn)柵介質(zhì)上下導(dǎo)線的互連。本發(fā)明省掉了刻蝕柵介質(zhì)這步工藝過(guò)程，是在完成了器件的柵電極制備后，為達(dá)到柵電極與隨后要生長(zhǎng)的柵介質(zhì)上面的引線互連，先在柵電極上光刻出過(guò)孔圖形，然后再蒸互連金屬，最后再生長(zhǎng)柵介質(zhì)材料。本發(fā)明過(guò)孔的制備過(guò)程工藝簡(jiǎn)單，操作性比通過(guò)刻蝕的方法方便，降低了工藝成本。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出