| 專利名稱: | 一種制備有源層材料取向有序的有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管的方法 |
| 專利類別: | |
| 申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 200810240077.0 |
| 申請(qǐng)日期: | 2008-12-17 |
| 專利號(hào): | CN101752502A |
| 第一發(fā)明人: | 劉舸 劉明 劉光華 商立偉 王宏 柳江 |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)日期: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
| 繳費(fèi)情況: | |
| 實(shí)施情況: | |
| 專利證書號(hào): | |
| 專利摘要: | 本發(fā)明公開了一種制備有源層材料取向有序的有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管的方法，該方法包括：在導(dǎo)電基底上生長(zhǎng)絕緣介質(zhì)薄膜；在絕緣介質(zhì)薄膜表面上旋涂抗蝕劑，光刻得到平行排列的線條圖形；在平行排列的線條圖形表面蒸鍍一層金屬薄膜；用丙酮?jiǎng)冸x掉光刻膠形成平行排列的金屬線條；沉積生長(zhǎng)有機(jī)半導(dǎo)體薄膜；通過(guò)鏤空的掩模版沉積源漏電極，完成有源層有機(jī)半導(dǎo)體材料取向有序的有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備。利用本發(fā)明，金屬引導(dǎo)線條制作簡(jiǎn)單，傳統(tǒng)的光刻工藝就可以很容易實(shí)現(xiàn)，線條的尺度不需要太小，因而對(duì)光刻設(shè)備也沒有很高的要求，而且對(duì)于不同曝光精度光刻機(jī)可以相應(yīng)的選取不同粗細(xì)的引導(dǎo)線條，更重要的是在實(shí)現(xiàn)對(duì)有機(jī)分子排列取向的控制上可控性比較強(qiáng)。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出