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專利名稱: 一種修飾有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管底電極的方法
專利類別:
申請(qǐng)?zhí)?/strong>: 200810240083.6
申請(qǐng)日期: 2008-12-17
專利號(hào): CN101752506A
第一發(fā)明人: 劉舸 劉明 劉興華 商立偉 王宏 柳江
其它發(fā)明人:
國(guó)外申請(qǐng)日期:
國(guó)外申請(qǐng)方式:
專利授權(quán)日期:
繳費(fèi)情況:
實(shí)施情況:
專利證書(shū)號(hào):
專利摘要: 本發(fā)明公開(kāi)了一種修飾有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管底電極的方法,該方法包括:在導(dǎo)電基底上熱氧化生長(zhǎng)絕緣介質(zhì)薄膜;在絕緣介質(zhì)薄膜表面上旋涂抗蝕劑,光刻得到底電極膠圖形;真空蒸鍍一層有機(jī)半導(dǎo)體材料;通過(guò)電子束蒸發(fā)在有機(jī)半導(dǎo)體材料表面蒸鍍一層金屬薄膜;用丙酮?jiǎng)冸x掉光刻膠完成底電極的圖形化;真空蒸鍍有機(jī)半導(dǎo)體材料,完成器件的制作。本發(fā)明對(duì)底電極的修飾采用溝道半導(dǎo)體材料本身,減小了電極與溝道材料之間的接觸電勢(shì)差。修飾用的有機(jī)半導(dǎo)體材料使用真空蒸鍍的方式得到,真空蒸鍍得到的有機(jī)半導(dǎo)體材料相對(duì)于液相法來(lái)說(shuō)具有更好物理形貌以至電學(xué)性能。另外,這種方法的工藝過(guò)程也比較簡(jiǎn)單,沒(méi)有增加復(fù)雜的工藝。
其它備注: