專(zhuān)利名稱(chēng): | 一種制作底電極平坦化的有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管的方法 |
專(zhuān)利類(lèi)別: | |
申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 200810240084.0 |
申請(qǐng)日期: | 2008-12-17 |
專(zhuān)利號(hào): | CN101752507A |
第一發(fā)明人: | 劉舸 劉明 劉興華 商立偉 王宏 柳江 |
其它發(fā)明人: | |
國(guó)外申請(qǐng)日期: | |
國(guó)外申請(qǐng)方式: | |
專(zhuān)利授權(quán)日期: | |
繳費(fèi)情況: | |
實(shí)施情況: | |
專(zhuān)利證書(shū)號(hào): | |
專(zhuān)利摘要: | 本發(fā)明公開(kāi)了一種制作底電極平坦化的有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管的方法,該方法包括:在導(dǎo)電基底上生長(zhǎng)絕緣介質(zhì)薄膜;在絕緣介質(zhì)薄膜表面上旋涂抗蝕劑,光刻得到底電極膠圖形;在底電極膠圖形表面蒸鍍一層金屬薄膜;用丙酮?jiǎng)冸x掉光刻膠對(duì)底電極進(jìn)行圖形化;旋涂可溶性有機(jī)柵介質(zhì),填隙在源漏之間的溝道,平坦化源漏電極;干燥有機(jī)柵介質(zhì)材料,并蒸鍍有機(jī)半導(dǎo)體層。利用本發(fā)明,底電極的平坦化工藝比較操作方便,設(shè)備簡(jiǎn)單,也不需要昂貴的刻蝕機(jī)設(shè)備,普通的旋涂工藝就可以很容易實(shí)現(xiàn)。同時(shí),有機(jī)柵介質(zhì)材料有些無(wú)機(jī)材料作為柵介質(zhì)所不具備的優(yōu)點(diǎn),且材料種類(lèi)非常豐富,可選擇的空間比較大。 |
其它備注: | |
科研產(chǎn)出