| 專利名稱: | 采用非自限制生長機(jī)理沉積納米疊層復(fù)合薄膜的方法 |
| 專利類別: | |
| 申請?zhí)?/strong>: | 200910077627.6 |
| 申請日期: | 2009-02-09 |
| 專利號: | CN101798682A |
| 第一發(fā)明人: | 李超波 夏洋 汪明剛 劉杰 陳瑤 趙麗莉 |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國外申請日期: | |
| 國外申請方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
| 繳費(fèi)情況: | |
| 實(shí)施情況: | |
| 專利證書號: | |
| 專利摘要: | 本發(fā)明公開了一種采用非自限制生長機(jī)理沉積納米疊層復(fù)合薄膜的方法，該方法包括：步驟1、向反應(yīng)室中引入第一類前驅(qū)物，以非自限制的方式沉積第一層薄膜；步驟2、排空第一類前驅(qū)物；步驟3、向反應(yīng)室中引入第二類前驅(qū)物，以非自限制的方式沉積第二層薄膜；步驟4、排空第二類前驅(qū)物；步驟5、向反應(yīng)室中引入第三類前驅(qū)物，以非自限制的方式沉積第三層薄膜；步驟6、排空第三類前驅(qū)物；步驟7、繼續(xù)以上步驟，依次沉積第四層至第N層薄膜，直到薄膜生長完成為止，N為自然數(shù)。本發(fā)明采用脈沖控制的非自限制生長原理生長納米疊層復(fù)合薄膜，生長速度快，臺階覆蓋能力強(qiáng)，且對多層薄膜組分的控制能力強(qiáng)，可用于多層疊層納米復(fù)合薄膜的快速生長。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出