專利名稱: | 用于提高非制冷紅外焦平面陣列器件性能的制作方法 |
專利類別: | |
申請?zhí)?/strong>: | 200510090179.5 |
申請日期: | 2005-08-11 |
專利號: | CN1911781 |
第一發(fā)明人: | 石莎莉 陳大鵬 李超波 焦斌斌 歐 毅 葉甜春 |
其它發(fā)明人: | |
國外申請日期: | |
國外申請方式: | |
專利授權(quán)日期: | |
繳費情況: | |
實施情況: | |
專利證書號: | |
專利摘要: | 一種用于提高非制冷紅外焦平面陣列器件性能的制作方 |
其它備注: | |
科研產(chǎn)出