| 專利名稱: | 納米壓印和光學(xué)光刻匹配混合的聲表面波器件制備方法 |
| 專利類別: | |
| 申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 200510126232.2 |
| 申請(qǐng)日期: | 2005-11-30 |
| 專利號(hào): | CN1979340 |
| 第一發(fā)明人: | 王叢舜 牛潔斌 涂德鈺 謝常青 陳寶欽 劉 明 |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國外申請(qǐng)日期: | |
| 國外申請(qǐng)方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
| 繳費(fèi)情況: | |
| 實(shí)施情況: | |
| 專利證書號(hào): | |
| 專利摘要: | 一種采用納米壓印和光學(xué)光刻匹配混合的聲表面波器件制備方法，其 工藝步驟如下：1.在壓電基片上旋涂壓印膠；2. 器件叉指圖形和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的壓模并對(duì)其表面進(jìn)行防粘連處理；3.將壓模 壓入壓印膠中，通過加熱、加壓或紫外光輻照固化等壓印方式得到叉指 和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的膠圖形；4.分離壓模和基片；5.利用氧等離子干法刻蝕 殘膠，直到露出基片；6.濺射或蒸發(fā)電極材料；7.剝離得到叉指電極 和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形；8.在基片上旋涂光刻膠；9.對(duì)聲表面波器件的其余 圖形進(jìn)行套準(zhǔn)光刻；10.濺射或蒸發(fā)電極材料；11.剝離得到圖形，完 成聲表面波器件的制備。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出