| 專利名稱: | 一種紫外固化納米壓印模版的制備方法 |
| 專利類別: | |
| 申請?zhí)?/strong>: | 200510130437.8 |
| 申請日期: | 2005-12-08 |
| 專利號: | CN1979341 |
| 第一發(fā)明人: | 涂德鈺 王叢舜 劉 明 |
| 其它發(fā)明人: | |
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| 國外申請方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
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| 專利證書號: | |
| 專利摘要: | 本發(fā)明屬于微電子學(xué)與納米電子學(xué)中的微納加工領(lǐng)域，特別涉及一 種紫外固化納米壓印模版的制備。其工藝步驟如下：1.在透光基片上 淀積一層易于刻蝕的薄膜；2.旋涂抗蝕劑；3.淀積一層導(dǎo)電薄膜；4. 光刻、顯影得到模版圖形；5.以抗蝕劑做掩蔽刻蝕第一層薄膜材料，將 模版圖形轉(zhuǎn)移到薄膜上；6.去除殘余抗蝕劑，完成紫外固化納米壓印模 版。 |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出