專利名稱: | 一種采用超臨界水去除光刻膠的系統(tǒng) |
專利類別: | 實(shí)用新型 |
申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 201020125723.1 |
申請(qǐng)日期: | 2010-03-05 |
專利號(hào): | |
第一發(fā)明人: | 王磊, 景玉鵬 |
其它發(fā)明人: | |
國外申請(qǐng)日期: | |
國外申請(qǐng)方式: | |
專利授權(quán)日期: | |
繳費(fèi)情況: | |
實(shí)施情況: | |
專利證書號(hào): | ZL201020125723.1 |
專利摘要: | |
其它備注: | 八室一組 |
科研產(chǎn)出