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專利名稱: 一種采用超臨界水去除光刻膠的系統(tǒng)
專利類別: 實(shí)用新型
申請(qǐng)?zhí)?/strong>: 201020125723.1
申請(qǐng)日期: 2010-03-05
專利號(hào):
第一發(fā)明人: 王磊, 景玉鵬
其它發(fā)明人:
國外申請(qǐng)日期:
國外申請(qǐng)方式:
專利授權(quán)日期:
繳費(fèi)情況:
實(shí)施情況:
專利證書號(hào): ZL201020125723.1
專利摘要:
其它備注: 八室一組