| 專利名稱: | 用電子束大小電流混合一次曝光制備X射線掩模的方法 |
| 專利類別: | 發(fā)明 |
| 申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 200510008009.8 |
| 申請(qǐng)日期: | 2005-02-07 |
| 專利號(hào): | |
| 第一發(fā)明人: | 劉明, 葉甜春, 謝常青, 張建宏 |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國外申請(qǐng)日期: | |
| 國外申請(qǐng)方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
| 繳費(fèi)情況: | |
| 實(shí)施情況: | |
| 專利證書號(hào): | ZL200510008009.8 |
| 專利摘要: | |
| 其它備注: | 三室 |
科研產(chǎn)出